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NEMST-IAPR2012 series

工業用プラズマ汚染処理装置(ポンプ後段設置)

工業用プラズマ汚染処理装置(ポンプ後段設置)
工業用プラズマ汚染処理装置(ポンプ後段設置)
  • 低温プラズマ空気浄化システム
  • 二次汚染のないグリーンクリーン技術
  • VOCs、異臭、有毒ガスの高効率な除去
  • 細菌・ウイルスの高効率な除菌
  • 操作性に優れた人機インターフェース(HMI)
  • 高度なカスタマイズに対応
  • 高効率な静電集塵技術
  • 特許取得済みの高効率プラズマ設計
  • 低消費電力・低騒音設計
  • 消耗品の交換が不要
  • 高効率静電フィルタ
  • 毛髪、ホコリ、微細粒子などをろ過・吸着
  • 高効率プラズマ清浄装置:高電位差による瞬間的なエネルギー放出で有害ガス分子をイオン化・分解し、細菌やウイルスを死滅させる設計
  • 静電集塵システム:極微細な粒子や目に見えない細菌・ウイルスを吸着・収集
  • 高効率オゾン除去装置:微量の有益なオゾンのみを放出。一般的な活性炭フィルタとは異なり、短期間の吸着飽和による性能低下がない設計
  • 工業環境浄化およびサステナビリティ: 大気汚染防止、工業排ガス処理、高濃度汚染環境への対応、ESG
  • 分野別応用およびカスタム設計: 医療機関や養殖業への応用、汚染度や空間規模に応じた専門的な設計・施工